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GV10x UHVダウンストリームアッシャー

インターネット上にある他社のプラズマ発生器は、HVには互換性があっても、UHVには互換性がない場合があります。 HVプラズマ発生器をUHV互換に変換するための真空機器には、高価な隔離弁とプリポンプ機器を取り付ける必要があります。 

GV10x UHV DS Asherは、ミリトール領域でチャンバーをプラズマ洗浄した後に、真空状態を破壊することなく、UHVチャンバーにそのまま設置しておけるように設計されています。 この弊社独自のin-situ プラズマ発生器があれば、高いコストのかかる隔離弁やプリポンプはもはや不要です。

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GV10x UHV DownStream Asher

製品

SEM、FIB、TEMの汚染に対するソリューション

GV10x DS Asher

in-situの汚染低減は、他の方法の10倍効率的です。

GV10x Source

GV/GA

超高真空対応。- HVプラズマ源の変換に必要な部品 UHV対応

MCA

EM試料のex-situ洗浄とSEM/FIBチャンバーのin-situ洗浄が可能な移動式ダウンストリームプラズマセンター

Chiaro - Complete solution in rolling cabinet

Chiaro

プラズマ洗浄と表面親水化、TEM試料の観察、倍率40倍での液体セルからのリークチェックが可能

アプリケーション

GV10x DSアッシャーの、電子顕微鏡試料とチャンバーから汚染を除去する優れた能力は、世界中の電子顕微鏡ユーザーに広く認知されています。 第1世代のプラズマ洗浄装置、LN2トラッピング、UV照射等、従来の方法を超えた汚染防止方法は、EM研究において、思いのままに炭素アーチファクトをすばやく除去し、チャンバー内の汚染の蓄積を緩和することを可能にします。

記事

in-situプラズマミラークリーニングに関するレポート

リモート誘導結合型低気圧RFプラズマ源(GV10x DownStream Asher) を用いて、大型の光学面から炭素汚染物を洗浄するための先進的な方法に関する拡張研究が報告された。 このスケールアップされた洗浄プロセスの技術的および科学的特徴、例えば、異なる炭素同素体（アモルファスやダイヤモンド状炭素)に対する洗浄効率を…… 続きを読む

光学表面のリモートプラズマ洗浄

in-situプラズマミラー洗浄の特性評価、最適化および表面物理学的側面シンクロトロンビームライン光学系の黒鉛状炭素汚染は、数十年間にわたって明らかな問題であったが、汚染プロセスおよび洗浄/修復方法の根底にある基本的なメカニズムは解明されておらず、対応する洗浄手順は依然として…… 続きを読む

TEM用ダウンストリームプラズマ技術に関するレポート

Downstream Plasma Technology for Cleaning TEM Samples on Carbon Films Plasma cleaning has become an essential step in modern analytical electron microscopy, which requires contamination free samples for imaging and elemental analysis. しかしながら、炭素膜TEMグリッドユーザーにとってのジレンマは、いかに炭素支持膜を保存しながら炭化水素汚染物をプラズマ洗浄するかである。 この問題を……  続きを読む

ギャラリー

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Chiaro - Complete solution in rolling cabinet
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Mobile MCA - Complete solution
GV10x Source
GV10X Controller & Source

ibss Group, Inc. グローバル表現の機会

GV10X Controller & Source
GV10x DSアッシャーシリーズ

ibssグループは、日本国内の販売代理店を募集しています。

Ibssグループ社のプラズマ製品は、電子顕微鏡や他の分析機器チャンバーで炭化水素レベルを低く抑えることが、世界的に認められています。有機・無機サンプルは本来の場所でも、その他の場所でも、汚染が起きないように効果的かつ効率的に作ることができます。 有機および無機サンプルは効果的かつ効率的に汚染を自由にするその時または元のその時に作られる。

世界的な半導体需要に応え、クライオ生物学的研究に重点を置くため、日本の販売代理店からの関連ポートフォリオに関する問い合わせを積極的に受け入れ、サービスサポートで販売を促進しています。

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GV10x

The GV10x Downstream Asher’s ability to remove carbon contamination is a major advancement above traditional methods of mitigating contamination using cold trapping, nitrogen purging, and other plasma cleaners. The GV10x, with its extended power and pressure range (5 to 100 Watts and 2 to <0.005 Torr), represents a paradigm shift in the carbon HC control in SEMs and other analytical instruments including Mas Spec, XPS etc.

As nanoscience progresses, electron probe analysis becomes more challenging: electron beam energies decrease, precursor gas use increases and maintaining high resolution becomes more dependent on maintaining low carbon and HC contamination levels. Downstream plasma process accomplishes eliminating hydrocarbon contamination accumulation and specimen cleaning simultaneously quickly, and easily. Unlike kinetic cleaning in usual ‘plasma cleaners’, the downstream plasma process is a gentle chemical (virtually zero K.E.) process. This process has revolutionized the means to eliminate carbon and hydrocarbons in vacuum chambers.

GV10x - UHV

The GV10x UHV DS Asher is designed to reside on an Ultra High Vacuum (UHV) chamber after chamber plasma cleaning in millitorr range without breaking vacuum. This one of a kind in-situ plasma source eliminates the need for other costly components in Ultra High Vacuum chamber configurations, including the need for isolation valve and pre-pump.

There are significant considerations needed to be evaluated for UHV systems and normal HV plasma cleaners generally do not meet the high standards needed:  GV10x-UHV soundly meets the requirements.
GV10X Controller & Source

MCA

A mobile plasma center that cleans, stores and processes SEM/TEM samples/holders and other sundry items in a small chamber. The Qwk-Switch™ Source facilitates shifting hydrocarbon mitigation to other SEM or FIB sites for in-situ chamber cleaning.

The MCA chamber accommodates an assortment of specimens to remove hydrocarbons, hydrophilizing surfaces, storing and cleaning three TEM holders and specimens with ibss signature GV10x Downstream plasma fitted onto a portable S/S cart.

Chiaro

The Chiaro similar to MCA but distinguished by turbomolecular pressure & speed. An optional optical microscope can be installed to mount and observe specimens during plasma conditioning and potential leak observation from liquid/gas specimen cells. Plasma processing at lower vacuum increases plasma processing activity. To meet requirements of viewing gas and liquid sample cells in TEM holders the Chiaro performs the functions of leak checking, gas/liquid E-Chip viewing while mounting, surface hydrophilization and plasma processing.

  • Easy TEM specimen loading through swing away chamber port
  • Swing away stereo mic with keyed re-registration
  • 5X mag w/6” working distance, LED illumination to view loading
  • Pressure monitor possible gas/liquid cell leaks at <2e-5 Torr
  • and much more..

Work & Holiday Schedule

Normal Hours

ibssGroup’s normal work hours are based on California time:  

8:00am to 6:00pm
Monday through Friday

Holiday Schedule

Martin Luther King Jr.:  January 15
Memorial Day:  May 27
US Independence: July 4
Labor Day: September 2
US Thanksgiving: November 28 – 29
Winter Break:  December 24 thru January 2

GV10x

GV10xの炭素汚染除去性能は、従来の汚染除去方法（コールドトラップ、窒素パージ、他社のプラズマ洗浄装置を利用）よりも大幅に向上しています。 GV10xは、出力と圧力の設定可能範囲が広く(5～100W、2<0.005Torr)、SEMやその他分析機器（Mas Spec、XPSなど）における炭素、炭化水素の除去にパラダイムシフトを起こしました。

ナノサイエンスの発展にともない、電子プローブ分析はますます困難なものになっています。電子ビームのエネルギーは減少し、前駆体ガスの使用は増加し、高分解能の維持は、炭素や炭化水素の汚染レベルを低く維持することにかかっているからです。 ダウンストリームプラズマ処理では、蓄積した炭化水素汚染の除去と試料洗浄を、同時に迅速かつ簡単に実現できます。 一般的なプラズマ洗浄装置での動力学的洗浄とは異なり、ダウンストリームプラズマ処理は緩やかな化学的処理(実質的に運動エネルギーが0)です。 これは、真空チャンバー内の炭素と炭化水素を除去する手法に革命をもたらしました。

GV/GA

Gentle Asherは、EMチャンバー挿入前の試料洗浄に対するGV10xへの投資効果をさらに高めるように設計されています。 Gentle AsherチャンバーとGV10xが一体化されたGA/GVは、走査エリアに四角形の黒い堆積物が生じるを防ぐのに理想的です。

GVxプラズマ源をGentle Asherのチャンバーに移動するだけで、試料およびTEMホルダーから、大きな損傷を引き起こすことなく、容易かつ効果的に不純物を除去します。同時に、SEM、TEM、CDSEMおよびFIB中の炭化水素レベルを制御できます。 試料とホルダーを事前に洗浄することで、チャンバーの気相汚染を防止し、顕微鏡洗浄に伴う時間を短縮します。

MCA

移動式プラズマ洗浄センターには、小さなチャンバーが搭載されており、SEM/TEMの試料/ホルダーやその他の部品を洗浄、保管、処理できます。 Qwk-Switch™搭載プラズマ発生器は、他のSEMやFIBの設置場所に移動でき、in-situでチャンバーの炭化水素除去が可能です。

MCAのチャンバーは、炭化水素除去が必要な試料を収容でき、可動式ステンレス製カートに搭載されたGV10xダウンストリームプラズマで、3つのTEMホルダーと試料を表面親水化、保管、洗浄できます。

Chiaro

MCAに似ているが、ターボ分子圧と速度によって区別されたチアロ。 オプションの光学顕微鏡を取り付ければ、プラズマコンディショニングと液体/気体試料セルからのリーク確認をしながら、試料の取り付けと観察が可能です。 低真空でプラズマ処理を行うと、プラズマ処理の活性が高まります。 TEMホルダー内の気体/液体試料セルの観察要件を満たすために、Chiaroは、リークチェック、試料装着中の気体/液体E-Chip観察、表面親水化、プラズマ処理を行います。

  • スイングアウェイチャンバーポートを通して容易なTEM標本の積み込み
  • キー付きの再登録でステレオマイクを振り払う
  • 5Xのマグw/6″作動距離、LED照明は、読み込みを表示する
  • 圧力モニター < 2e-5 Torr でガス/液体セル漏れの可能性
  • そしてはるかに.
Advanced GV10x Chiaro

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