GV10x DS Asher



ナノサイエンスの発展にともない、電子プローブ分析はますます困難なものになっています。電子ビームのエネルギーは減少し、前駆体ガスの使用は増加し、高分解能の維持は、炭素や炭化水素の汚染レベルを低く維持することにかかっているからです。 ダウンストリームプラズマ処理では、蓄積した炭化水素汚染の除去と試料洗浄を、同時に迅速かつ簡単に実現できます。 一般的なプラズマ洗浄装置での動力学的洗浄とは異なり、ダウンストリームプラズマ処理は緩やかな化学的処理(実質的に運動エネルギーが0)です。 これは、真空チャンバー内の炭素と炭化水素を除去する手法に革命をもたらしました。

この処理法は、容量の大きなチャンバーと汚染のひどい表面に対して特に効果的です。 GV10x DS Asherは、より高い濃度のO0とH0を発生させるので、チャンバーを侵襲することなく完全に洗浄するのに、既存の機器の10分の1の時間しかかかりません。 ユーザーの皆様からは、「GV10xを使うと、以前の方法と比べて1/10の時間で、大型チャンバー全体を均一に炭化水素除去できる」と感想をいただいております。

洗浄前の画像
洗浄後の画像

 

GV10xの炭素汚染除去性能は、従来の汚染除去方法(コールドトラップ、窒素パージ、他社のプラズマ洗浄装置を利用)よりも大幅に向上しています。 V10xは、出力と圧力の設定可能範囲が広く(5~100W、2~<0.005Torr)、SEMやその他分析機器(Mas Spec、XPSなど)における炭素、炭化水素の除去にパラダイムシフトを起こしました。
原子状酸素と原子状水素は、表面炭素を気相分子に変換することによって汚染を除去します。これらの気相分子は、固定化されたり一時的に捕捉されたりするのではなく、チャンバーからポンプで排出されます。 ポリマー堆積物など、試料に付着したアーティファクトは、5分を超えるサイクルで除去することができます。 一般的に頻繁な洗浄は必要ないので、Qwk-Switch™が構成された1台のGV10x DS Asherがあれば、複数のEM関連機器の炭化水素汚染レベルを低く維持できます。

ibss Group は、GV10xプラズマ発生器に電源を供給し動作させる制御器を2種類の形状で提供しています。 実験室でのニーズに合わせて、ベンチトップ型制御器または2U型制御器を選択できます。

Windowsソフトウェアまたはタッチスクリーンから、運転中に動作電力を10~99Wの範囲で設定、監視、変更できます。 プラズマ発生器に取り付けられた圧力調整器を使って、2Torr<5mTorrの範囲で圧力を調整可能です。 GV10xでは幅広い範囲で圧力を調整できるので、TMPの損傷やシステムインターロックソフトウェアによる中断もなく、TMPの排気速度での炭化水素除去が可能です。

Key Features

  • 5mTorr未満から2Torrまでの範囲でTMPの運転を中断せずに調整可能なプラズマ動作圧力
  • 50Wで1.5nm/minの汚染除去速度で繰り返し使用可能 [Click Here]
  • 5分未満のプラズマ洗浄サイクル
  • 低圧力による均一な洗浄
  • 他社のプラズマ洗浄装置よりも10倍効率的な汚染除去
  • ダウンストリームプラズマ-加熱やスパッタリングが不要
  • オプトアイソレーターで保護されたSEMソフトウェア
  • 短期間で投資額を回収可能

プラズマ発生器の機能

誘導結合プラズマ発生器
KF40、コンフラット、Qwk-Switch™フィッティングに対応
Qwk-Switch™搭載プラズマ発生器 - 装置間をシームレスに移動可能


制御器の機能

タッチスクリーンまたはWindows OSによる操作
明るく反応性の良いタッチスクリーン
調整可能なRF電力: 5-100W
調整可能な洗浄時間(サイクルプログレスバーで確認可能)
パスワード保護された設定
垂直位置での小さな設置面積(2U型制御器)


GV10x DS Asher

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