ibss Group, Inc.

再定義された表面

注目製品

GV10x UHVダウンストリームアッシャー

インターネット上にある他社のプラズマ発生器は、HVには互換性があっても、UHVには互換性がない場合があります。 HVプラズマ発生器をUHV互換に変換するための真空機器には、高価な隔離弁とプリポンプ機器を取り付ける必要があります。

GV10x UHV DS Asherは、ミリトール領域でチャンバーをプラズマ洗浄した後に、真空状態を破壊することなく、UHVチャンバーにそのまま設置しておけるように設計されています。この弊社独自のin-situ プラズマ発生器があれば、高いコストのかかる隔離弁やプリポンプはもはや不要です。

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アプリケーション

GV10x DSアッシャーの、電子顕微鏡試料とチャンバーから汚染を除去する優れた能力は、世界中の電子顕微鏡ユーザーに広く認知されています。第1世代のプラズマ洗浄装置、LN2トラッピング、UV照射等、従来の方法を超えた汚染防止方法は、EM研究において、思いのままに炭素アーチファクトをすばやく除去し、チャンバー内の汚染の蓄積を緩和することを可能にします。

in-situプラズマミラークリーニングに関するレポート

リモート誘導結合型低気圧RFプラズマ源(GV10x DownStream Asher) を用いて、大型の光学面から炭素汚染物を洗浄するための先進的な方法に関する拡張研究が報告された。このスケールアップされた洗浄プロセスの技術的および科学的特徴、例えば、異なる炭素同素体（アモルファスやダイヤモンド状炭素)に対する洗浄効率を…… 続きを読む

光学表面のリモートプラズマ洗浄

in-situプラズマミラー洗浄の特性評価、最適化および表面物理学的側面シンクロトロンビームライン光学系の黒鉛状炭素汚染は、数十年間にわたって明らかな問題であったが、汚染プロセスおよび洗浄/修復方法の根底にある基本的なメカニズムは解明されておらず、対応する洗浄手順は依然として…… 続きを読む

Downstream Plasma Technology for Cleaning TEM Samples on Carbon Films Plasma cleaning has become an essential step in modern analytical electron microscopy, which requires contamination free samples for imaging and elemental analysis. しかしながら、炭素膜TEMグリッドユーザーにとってのジレンマは、いかに炭素支持膜を保存しながら炭化水素汚染物をプラズマ洗浄するかである。この問題を…… 続きを読む

ギャラリー

ibss Group, Inc. グローバル表現の機会

ibssグループは、日本国内の販売代理店を募集しています。

Ibssグループ社のプラズマ製品は、電子顕微鏡や他の分析機器チャンバーで炭化水素レベルを低く抑えることが、世界的に認められています。有機・無機サンプルは本来の場所でも、その他の場所でも、汚染が起きないように効果的かつ効率的に作ることができます。有機および無機サンプルは効果的かつ効率的に汚染を自由にするその時または元のその時に作られる。

世界的な半導体需要に応え、クライオ生物学的研究に重点を置くため、日本の販売代理店からの関連ポートフォリオに関する問い合わせを積極的に受け入れ、サービスサポートで販売を促進しています。

ディストリビューターになることに興味のある方は、以下をクリックしてください。

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