注目製品
GV10x UHVダウンストリームアッシャー
インターネット上にある他社のプラズマ発生器は、HVには互換性があっても、UHVには互換性がない場合があります。 HVプラズマ発生器をUHV互換に変換するための真空機器には、高価な隔離弁とプリポンプ機器を取り付ける必要があります。
GV10x UHV DS Asherは、ミリトール領域でチャンバーをプラズマ洗浄した後に、真空状態を破壊することなく、UHVチャンバーにそのまま設置しておけるように設計されています。 この弊社独自のin-situ プラズマ発生器があれば、高いコストのかかる隔離弁やプリポンプはもはや不要です。
SEM、FIB、TEMの汚染に対するソリューション
GV10x DS Asher
in-situの汚染低減は、他の方法の10倍効率的です。
GV/GA
User-assembled ex-situ bench top for EM samples, TEM holder cleaning and storage
MCA
EM試料のex-situ洗浄とSEM/FIBチャンバーのin-situ洗浄が可能な移動式ダウンストリームプラズマセンター
Chiaro
プラズマ洗浄と表面親水化、TEM試料の観察、倍率40倍での液体セルからのリークチェックが可能
GV10x DSアッシャーの、電子顕微鏡試料とチャンバーから汚染を除去する優れた能力は、世界中の電子顕微鏡ユーザーに広く認知されています。 第1世代のプラズマ洗浄装置、LN2トラッピング、UV照射等、従来の方法を超えた汚染防止方法は、EM研究において、思いのままに炭素アーチファクトをすばやく除去し、チャンバー内の汚染の蓄積を緩和することを可能にします。
GV10x shows an obvious improvement
..the [GV10x] downstream plasma ashing system shows an obvious improvement compared to the traditional one
リモート誘導結合型低気圧RFプラズマ源(GV10x DownStream Asher) を用いて、大型の光学面から炭素汚染物を洗浄するための先進的な方法に関する拡張研究が報告された。 このスケールアップされた洗浄プロセスの技術的および科学的特徴、例えば、異なる炭素同素体（アモルファスやダイヤモンド状炭素)に対する洗浄効率を…… 続きを読む
in-situプラズマミラー洗浄の特性評価、最適化および表面物理学的側面シンクロトロンビームライン光学系の黒鉛状炭素汚染は、数十年間にわたって明らかな問題であったが、汚染プロセスおよび洗浄/修復方法の根底にある基本的なメカニズムは解明されておらず、対応する洗浄手順は依然として…… 続きを読む
炭素膜上のTEM試料を洗浄するためのダウンストリームプラズマ技術プラズマ洗浄は、画像化および元素分析のために汚染のない試料を必要とする現代の分析電子顕微鏡観察において必須の手順となっている。 しかしながら、炭素膜TEMグリッドユーザーにとってのジレンマは、いかに炭素支持膜を保存しながら炭化水素汚染物をプラズマ洗浄するかである。 この問題を…… 続きを読む
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