インターネット検索で見つかった競合他社のプラズマ発生器は、HV（高真空）には互換性があっても、UHV（超高真空）には互換性がないと思われます。 HVプラズマ発生器をUHV互換に変換するための真空機器には、高価な隔離弁とプリポンプ機器を取り付ける必要があります。

GV10x UHV DS Asherは、ミリトール領域でチャンバーをプラズマ洗浄した後に、真空状態を破壊することなく、UHVチャンバーにそのまま設置しておけるように設計されています。 このin-situプラズマ発生器が1台あれば、高いコストのかかる隔離弁やプリポンプはもはや必要ありません。

革新的なプラズマ発生器の設計によって、GV10x UHV Downstream Asherは、シンクロトロン光学系の炭化水素汚染を10～20倍効果的に除去し、従来の方法やプラズマ洗浄装置よりも10倍以上速く洗浄します。

GV10xの炭素汚染除去性能は、従来の汚染除去方法（コールドトラップ、窒素パージ、他社のプラズマ洗浄装置を利用）よりも大幅に向上しています。 GV10xは、出力と圧力の設定可能範囲が広く(5～100W、2～<0.005Torr)、SEMやその他真空システムにおける炭素汚染除去にパラダイムシフトを起こしました。 原子状酸素と原子状水素は、表面炭素を気相分子に変換することによって汚染を除去します。これらの気相分子は、チャンバーからポンプで排出されます。

ibss Group は、GV10x プラズマ発生器に電源を供給し動作させる2種類の制御器を提供しています。 実験室でのニーズに合わせて、ベンチトップ型制御器または2U型制御器を選択できます。 ibss GUI ソフトウェアは、両方の制御器と互換性があります。

Gentle Asherは、EMチャンバー挿入前の試料洗浄に対するGV10xへの投資効果をさらに高めるように設計されています。 Gentle Asherのチャンバーは、GV10xと一体化され、走査エリアに四角形の黒い堆積物が生じるのを防ぐのに理想的です。

GVGAは、従来のプラズマ洗浄装置とは異なります。プラズマ粒子は加速されず、30ev以下のエネルギーのダウンストリームとなり、イオンスパッタやサンプル表面の損傷が起こりません。 Gv10xプラズマ発生器で生成された原子状酸素は、試料に付着した炭化水素を化学的に分解して、CO2、CO、H2Oを生成します。そして、これらの分子はポンプによって排出されます。.

移動式プラズマ洗浄センターには、小さなチャンバーが搭載されており、SEM/TEMの試料/ホルダーやその他の部品を洗浄、保管、処理できます。 Qwk-Switch™搭載プラズマ発生器は、他のSEMやFIBの設置場所に移動でき、in-situでチャンバーの炭化水素除去が可能です。

MCAのチャンバーは、炭化水素除去が必要な試料を収容でき、可動式ステンレス製カートに搭載されたGV10xダウンストリームプラズマで、3つのTEMホルダーと試料を表面親水化、保管、洗浄できます。

MCAとよく似ていますが、ターボ分子ポンプの圧力と速度が異なります。 オプションの光学顕微鏡を取り付ければ、プラズマコンディショニングと液体/気体試料セルからのリーク確認をしながら、試料の取り付けと観察が可能です。 低真空でプラズマ処理を行うと、プラズマ処理の活性が高まります。 TEMホルダー内の気体/液体試料セルの観察要件を満たすために、Chiaroは、リークチェック、試料装着中の気体/液体E-Chip観察、表面親水化、プラズマ処理を行います。