기존의 cold trapping, nitrogen purging 및 기타 플라즈마 크리너를 이용하여 오염을 완화하던 방식에서 GV10x Downstream Asher의 탄소 오염 제거 능력은 큰 발전을 이룩하였습니다. 더 확장된 출력 및 압력 범위 (10~99 watts 및 2 ~ <0.005 Torr)를 탑재한 GV10x는 SEM과 같은 분석 장비의 탄소 및 탄화수소 오염조절 분야에서 패러다임의 변화를 불러왔다 해도 과언이 아닙니다. 산소 및 수소 라디칼이 표면 상의 탄소 오염을 기체 형태로 바꾼 후, 단순히 고정시키거나 잠시 가두는 것이 아닌 chamber 외부로 바로 배출되면서 완벽히 오염을 제거합니다.

ibss Group, Inc. 은 2가지 종류의 콘트롤러와 플라즈마 소스를 제공합니다. 연구소 환경에서 선호되는 제품들은 Bench Top 컨트롤러와 2U 컨트롤러입니다. ibss GUI 소프트웨어는 모든 콘트롤러와 호환 가능합니다.

인터넷 검색을 통하여 찾은 경쟁업체의 플라즈마 크리너들은 HV(고진공)에는 호환되지만 UHV (초고진공)에는 적합하지 않거나 사용하지 못할 것입니다. HV 플라즈마 소스를 UHV에 호환하기 위해 필요한 부품들은 비싼 격리 밸브 및 사전펌프 부품들을 요합니다.

GV10x UHV DS Asher는 UHV 챔버에 장착하여 millitorr 범위의 초고진공 상태(TMP 100%)를 유지한 채로 플라즈마 세척을 가능하게 하며, 이후에도 제거가 필요 없는 디자인으로 설계되었습니다 이 고정형 plasma source는 그 어디에서든 유일하며, 비싼 격리 밸브와 사전펌프의 설치가 필요 없습니다.

혁신적인 플라즈마 소스 설계를 통해 GV10x UHV 다운스트림 애셔는 싱크로트론 광학에서 탄화수소 오염을 기존의 타 방식들보다 10배에서 20배까지 더 효율적인 오염 제거 능력을 보여주었습니다.

SEM/TEM 샘플/홀더 및 기타 여러가지 소형 물품을 소형 챔버내에서 세척 할 수 있는 이동식 플라즈마 크리너입니다. Qwk-Switch™ Source가 SEM 혹은 FIB의 고정형 챔버로 이동 장착을 가능하게 합니다.

MCA chamber는 휴대용 S/S cart에 장착된 ibss 시그니쳐 GV10x Downstream plasma를 통하여 3개의 TEM holder 및 다양한 샘플을 보관 및 세척 할 수 있습니다.

Chiaro는 MCA와 유사하나 turbomolecular pump 장착으로 구분됩니다. 옵션으로 선택 가능한 광학 현미경을 장착하여 시료들을 플라즈마 컨디셔닝시에 관찰하거나 시료의 잠재적인 액체/기체 유출 여부를 확인할 수 있습니다. 고진공 상태에서의 플라즈마 프로세싱은 플라즈마 활동을 더욱 증가시킵니다. TEM 홀더 내에서 기체 및 액체 시료 셀들을 볼 수 있게 하기 위하여, Chiaro는 유출 검사, 시료장착 중 기체/액체 E-Chip 확인, 표면 친수화, 플라즈마 프로세싱과 같은 기능을 수행합니다.