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GV10x UHV Downstream Asher

인터넷 검색을 통하여 찾은 경쟁업체의 플라즈마 크리너들은 HV(고진공)에는 호환되지만 UHV (초고진공)에는 적합하지 않거나 사용하지 못할 것입니다. HV 플라즈마 소스를 UHV에 호환하기 위해 필요한 부품들은 비싼 격리 밸브 및 사전펌프 부품들을 요합니다. 

GV10x UHV DS Asher는 UHV 챔버에 장착하여 millitorr 범위의 초고진공 상태(TMP 100%)를 유지한 채로 플라즈마 세척을 가능하게 하며, 이후에도 제거가 필요 없는 디자인으로 설계되었습니다 이 고정형 플라즈마 소스는 그 어디에서든 유일하며, 비싼 격리 밸브와 사전펌프의 설치가 필요 없습니다.

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GV10x UHV DownStream Asher

제품

SEM, FIB and TEM Contamination Solutions

GV10x DS Asher

고정형 플라즈마 크리너를 통한 오염완화는 다른 방법보다 10배더 효율적입니다.

GV/GA

전자현미경 시료, TEM 홀더 세척과 보관을 위한 사용자 직접설치 이동형 벤치탑

Mobile DS Asher

MCA

전자현미경 시료 준비 및 SEM / FIB 챔버 세척을위한 이동식 다운 스트림 플라즈마 센터

Chiaro

플라즈마 클린과 친수성 표면, TEM 표면관찰, 40배의 유체세포 누수검사

응용 프로그램 기술 응용

GV10x DS Asher의 탁월한 전자현미경 시료 및 챔버 내 탄소 오염 제거 능력은 전자현미경 사용자들에 의해 잘 알려져 있습니다. 1세대 플라즈마 클리너, LN2트래핑, UV 노출과 같은 기존의 방식을 뛰어 넘는 본 제품의 오염 관리 개선책은 많은 전자현미경 통한 연구들로 하여금 탄소 잔여물들을 수 분 내에 제거할 수 있게 해주며 챔버 내부에 쌓인 오염을 경감할 수 있게 해줍니다.

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논문

In Situ Plasma Mirror Cleaning 보고서

원격 유도결합 저압 RF 플라즈마 소스 (GV10x DownStream Asher)를 사용하여 큰 광학 표면에서 탄소 오염을 청소하는 진보된 방식에 대한 연구가 보고되었습니다. 이와 같은 스케일업 크리닝 과정의 기술적 과학적 특성들은 다른 종류의 탄소 동소체 (비결정질, 다이아몬드 성질 등등) 같은 물질에서 분석 되었습니다. 더 많은 정보

광학 표면의 원격 플라즈마 세정

고정형 플라즈마 미러 크리닝의 특징, 최적화 및 표면의 물리학적 형태 싱크트론 빔라인 옵틱의 흑연 탄소 오염이 수십 년간의 명확한 문제였음에도, 세척/교정 전략만큼이나 근본적인 오염과정의 기본 메커니즘을 이해하지 못하였고 오염에 대응하는 세척은 아니었습니다. 더 많은 정보

다운 스트림 플라즈마 기술을 위한 TEM 보고서

탄소 필름의 TEM 샘플 세척을 위한 다운스트림 플라즈마 기술 플라즈마 세척은 이미징 및 원소 분석을 위해 오염이 없는 샘플이 필요한 현대 분석 전자 현미경의 필수 단계가 되었습니다. 하지만 탄소필름 구조를 유지하며 탄화수소오염을 플라즈마로 제거하는 방법은 탄소필름 TEM grid 사용자에겐 딜레마입니다. 순서대로  더 많은 정보

자료실

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Mobile DS Asher
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Mobile DS Asher
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ibss Group, Inc. 글로벌 대표 기회

GV10x DS 애셔 시리즈

전 세계적으로 ibss 그룹 판매 확대

ibss 그룹, Inc. 플라즈마 제품은 전자 현미경 및 기타 분석 기기 챔버에서 낮은 탄화수소 수준을 달성하는 것으로 전 세계적으로 인정받고 있습니다. 유기 및 무기 샘플은 현장 또는 현장 외에서 오염 없이 효과적이고 효율적으로 만들어집니다.

글로벌 반도체 수요 및 극저온 생물학 연구 강조에 부응하기 위해 당사는 서비스 지원을 통한 판매 촉진을 위해 관련 포트폴리오와 함께 영업 담당자의 문의를 적극적으로 수락하고 있습니다.

새로운 판매 대리인은 기존 판매 채널을 보강할 것입니다.

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GV10x

The GV10x Downstream Asher’s ability to remove carbon contamination is a major advancement above traditional methods of mitigating contamination using cold trapping, nitrogen purging, and other plasma cleaners. The GV10x, with its extended power and pressure range (5 to 100 Watts and 2 to <0.005 Torr), represents a paradigm shift in the carbon HC control in SEMs and other analytical instruments including Mas Spec, XPS etc.

As nanoscience progresses, electron probe analysis becomes more challenging: electron beam energies decrease, precursor gas use increases and maintaining high resolution becomes more dependent on maintaining low carbon and HC contamination levels. Downstream plasma process accomplishes eliminating hydrocarbon contamination accumulation and specimen cleaning simultaneously quickly, and easily. Unlike kinetic cleaning in usual ‘plasma cleaners’, the downstream plasma process is a gentle chemical (virtually zero K.E.) process. This process has revolutionized the means to eliminate carbon and hydrocarbons in vacuum chambers.

GV/GA

The Gentle Asher has been specifically designed to expand the GV10x investment for sample cleaning prior to inserting into the EM chamber. The Gentle Asher Chamber, which is integrated with a GV10x connected GA/GV, is ideal for preventing black scan square deposits.

By simply shifting the GVx Source onto the Gentle Asher Chamber, this technique easily and effectively removes impurities from samples and TEM holders without causing any considerable damage and at the same time controls hydrocarbon levels in SEM, TEM, CDSEM and FIB. When samples and holders are pre-cleaned, it prevents contamination of the chamber gas phase and reduces the time involved in microscope cleanings.

MCA

A mobile plasma center that cleans, stores and processes SEM/TEM samples/holders and other sundry items in a small chamber. The Qwk-Switch™ Source facilitates shifting hydrocarbon mitigation to other SEM or FIB sites for in-situ chamber cleaning.

The MCA chamber accommodates an assortment of specimens to remove hydrocarbons, hydrophilizing surfaces, storing and cleaning three TEM holders and specimens with ibss signature GV10x Downstream plasma fitted onto a portable S/S cart.

Chiaro

The Chiaro similar to MCA but distinguished by turbomolecular pressure & speed. An optional optical microscope can be installed to mount and observe specimens during plasma conditioning and potential leak observation from liquid/gas specimen cells. Plasma processing at lower vacuum increases plasma processing activity. To meet requirements of viewing gas and liquid sample cells in TEM holders the Chiaro performs the functions of leak checking, gas/liquid E-Chip viewing while mounting, surface hydrophilization and plasma processing.

  • Easy TEM specimen loading through swing away chamber port
  • Swing away stereo mic with keyed re-registration
  • 5X mag w/6” working distance, LED illumination to view loading
  • Pressure monitor possible gas/liquid cell leaks at <2e-5 Torr
  • and much more..
Advanced GV10x Chiaro

Work & Holiday Schedule

Normal Hours

ibssGroup’s normal work hours are based on California time:  

8:00am to 6:00pm
Monday through Friday

Holiday Schedule

Martin Luther King Jr.:  January 15
Memorial Day:  May 27
US Independence: July 4
Labor Day: September 2
US Thanksgiving: November 28 – 29
Winter Break:  December 24 thru January 2

GV10x

기존의 cold trapping, nitrogen purging 및 기타 플라즈마 크리너를 이용하여 오염을 완화하던 방식에서 GV10x Downstream Asher의 탄소 오염 제거 능력은 큰 발전을 이룩하였습니다. 더 확장된 출력 및 압력 범위 (10~99 watts 및 2 ~< <0.005 Torr)를 탑재한 GV10x는 SEM, Mas Spec. 그리고 XPS와 같은 분석 장비의 탄소 및 탄화수소 오염조절 분야에서 패러다임의 변화를 불러왔다 해도 과언이 아닙니다.

나노과학이 발전함에 따라, 전자빔 분석은 더욱 난이도가 높아지고 있습니다 : 전자빔 에너지는 낮아지고 전구체 가스 사용은 증가하여, 고해상도를 유지하는 것은 낮은 탄소 및 탄화수소 오염 수준을 유지하는 것에 달려 있기 때문입니다. 다운스트림 플라즈마 과정은 탄화수소 오염 및 시료 세척 모두를 동시에 빠르고 쉽게 가능케합니다. 일반적인 ‘플라즈마 크리너’에 사용되는 kinetic energy 세척과는 달리, 다운스트림 플라즈마 과정은 아주 부드러운 (사실상 K.E.가 0에 가까운) 화학적 과정입니다. 이 과정은 진공챔버 내부의 탄소 및 탄화수소 제거 방식에 혁명을 불러일으켰습니다.

GV/GA

Gentle Asher는 샘플을 전자현미경 챔버에 로딩하기 전, 시료세척을 먼저 실행하기 위해 고안된 확장성을 가진 제품입니다. GV10x와 결합된 Gentle Asher 챔버는 black scan square deposit을 예방하는 데에 가장 이상적인 제품입니다.

GV10X 플라즈마 소스를 간단히 GA chamber로 옮김으로써, 어떤 손상도 없이 간단하고 효율적으로 시료와 TEM 홀더로부터 오염을 제거하고 동시에 SEM, TEM, CDSEM 및 FIB의 오염수준을 제어할 수 있습니다. 시료와 홀더가 미리 세척되었을 때, 챔버내 가스사용으로부터 오염이 보호되며 전자현미경 세척시간이 경감됩니다.

MCA

SEM/TEM 샘플/홀더 및 기타 여러가지 소형 물품을 소형 챔버내에서 세척 할 수 있는 이동식 플라즈마 크리너입니다. Qwk-Switch™ 소스가 SEM 혹은 FIB의 고정형 챔버로 이동 장착을 가능하게 합니다.

MCA chamber는 휴대용 S/S 카트에 장착된 ibss 시그니쳐 GV10x Downstream plasma를 통하여 3개의 TEM 홀더 및 다양한 샘플을 보관 및 세척 할 수 있습니다.

Chiaro

Chiaro는 MCA와 유사하지만 터보 분자 압력 및 속도로 구별됩니다. 옵션으로 선택 가능한 광학 현미경을 장착하여 시료들을 플라즈마 컨디셔닝시에 관찰하거나 시료의 잠재적인 액체/기체 유출 여부를 확인할 수 있습니다. 고진공 상태에서의 플라즈마 프로세싱은 플라즈마 활동을 더욱 증가시킵니다. TEM 홀더 내에서 기체 및 액체 시료 셀들을 볼 수 있게 하기 위하여, Chiaro는 유출 검사, 시료장착 중 기체/액체 E-Chip 확인, 표면 친수화, 플라즈마 프로세싱과 같은 기능을 수행합니다.

  • 회전식 챔버 포트를 통한 간편한 TEM 시편 로딩
  • 위치조정키와 회전이동 가능한 현미경
  • 5X mag w / 6”작업 거리, 로딩을 볼 수있는 LED 조명
  • <2e-5 Torr에서 압력 모니터 가능한 가스 / 액체 cell 누출
  • 더 많은 정보..
Advanced GV10x Chiaro

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