GV10x UHV DS Asher
Im Internet zu findende Konkurrenzgeräte können zwar mit Hochvakuum (HV), aber nicht mit Ultra- Hochvakuum (UHV) arbeiten. Vakuumkomponenten, die zur UHV-kompatiblen Umrüstung von HV-Plasmaquellen erforderlich sind, erfordern ein teures Absperrventil und Vorpumpenkomponenten. (??????)
Der GV10x UHV DS Asher ist so konstruiert, dass er nach der Kammerplasmareinigung im Millitorr-Bereich ohne Vakuumunterbrechung auf einer UHV-Kammer verbleibt. Diese einzigartige In-situ-Plasmaquelle macht ein kostspieliges Absperrventil und eine Vorpumpe überflüssig.
Key Features
- Reinigungszyklen in Minuten; 10x schneller als Konkurrenzprodukte.
- Bietet hervorragende Leistung gegenüber 'klassischen' kapazitiven Antennen Source (???)
- O2/Ar O0 Plasma für nicht oxidierende Oberflächen
- H2/Ar/Ne H0 Plasma für Nickel und Rh oxidierende Schichten
- Grating (???) effiziente Steigerung um Faktor 7.6
- Vollständige Wiederherstellung des Blazed-Hochenergie-Gitterprofils
- Stufenlos einstellbarer Betriebsdruck von <5 mTorr bis 2 Torr
- Erweiterter Spannungsbereich: 5-100 Watt Hochfrequenzspannung
- Nich schädlich
- Der System- Computer durch Optokoppler in beiden Controllern geschützt.
- Sehr hohe und gleichmäßige Reinigungsleistung
- Verringert die Verunreinigung 10x bis 20x wirkungsvoller als vergleichbare Geräte.
- Reinigungszyklus in Minuten; 10x schneller als Konkurrenzprodukte.
- Zukünftige Verbesserungen bei der Upscaling (Maßstabsvergrösserung)- und der Entfernung von H0-Verunreinigungen sind in Vorbereitung
