GV10x UHV DS Asher

Im Internet zu findende Konkurrenzgeräte können zwar mit Hochvakuum (HV), aber nicht mit Ultra- Hochvakuum (UHV) arbeiten. Vakuumkomponenten, die zur UHV-kompatiblen Umrüstung von HV-Plasmaquellen erforderlich sind, erfordern ein teures Absperrventil und Vorpumpenkomponenten. (??????)

Der GV10x UHV DS Asher ist so konstruiert, dass er nach der Kammerplasmareinigung im Millitorr-Bereich ohne Vakuumunterbrechung auf einer UHV-Kammer verbleibt. Diese einzigartige In-situ-Plasmaquelle macht ein kostspieliges Absperrventil und eine Vorpumpe überflüssig.

Key Features

  • Reinigungszyklen in Minuten; 10x schneller als Konkurrenzprodukte.
  • Bietet hervorragende Leistung gegenüber 'klassischen' kapazitiven Antennen Source (???)
  • O2/Ar O0 Plasma für nicht oxidierende Oberflächen
  • H2/Ar/Ne H0 Plasma für Nickel und Rh oxidierende Schichten
  • Grating (???) effiziente Steigerung um Faktor 7.6
  • Vollständige Wiederherstellung des Blazed-Hochenergie-Gitterprofils
  • Stufenlos einstellbarer Betriebsdruck von <5 mTorr bis 2 Torr
  • Erweiterter Spannungsbereich: 5-100 Watt Hochfrequenzspannung
  • Nich schädlich
  • Der System- Computer durch Optokoppler in beiden Controllern geschützt.
  • Sehr hohe und gleichmäßige Reinigungsleistung
  • Verringert die Verunreinigung 10x bis 20x wirkungsvoller als vergleichbare Geräte.
  • Reinigungszyklus in Minuten; 10x schneller als Konkurrenzprodukte.
  • Zukünftige Verbesserungen bei der Upscaling (Maßstabsvergrösserung)- und der Entfernung von H0-Verunreinigungen sind in Vorbereitung

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