GV10x UHV DS Asher

インターネット検索で見つかった競合他社のプラズマ発生器は、HV(高真空)には互換性があっても、UHV(超高真空)には互換性がないと思われます。 HVプラズマ発生器をUHV互換に変換するための真空機器には、高価な隔離弁とプリポンプ機器を取り付ける必要があります。

GV10x UHV DS Asherは、ミリトール領域でチャンバーをプラズマ洗浄した後に、真空状態を破壊することなく、UHVチャンバーにそのまま設置しておけるように設計されています。 このin-situプラズマ発生器が1台あれば、高いコストのかかる隔離弁やプリポンプはもはや必要ありません。

Key Features

  • 競合製品より10倍高速な洗浄サイクル(分単位)
  • ”古典的な”静電容量型プラズマ発生器よりも優れたパフォーマンス
  • 非酸化表面用のO2/Ar O0プラズマ
  • NiおよびRh酸化層用のH2/Ar/Ne H0プラズマ
  • グレーティング効率は7.6倍に増加
  • ブレーズド高エネルギー格子プロファイルの完全修復が可能
  • 5mTorr未満~2Torrの範囲で連続的に調整可能な動作圧力
  • 幅広い電力範囲:5-100WのRF電力
  • 試料の損傷なし
  • 両方の制御器での光絶縁により保護されたシステムPC
  • 非常に高い洗浄効率と均一性
  • 競合製品よりも10倍から20倍効果的に汚染を除去
  • 競合製品より10倍高速な洗浄サイクル(分単位)
  • 将来のスケールアップとH0汚染除去の改善計画が進行中

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