Mit den Fortschritten in den Nanowissenschaften wird die Elektronenprobenanalyse zunehmend anspruchsvoller: Die Energie des Elektronenstrahls nimmt ab, der Einsatz von Prozessgasen nimmt zu und um das Erreichen einer hohen Auflösung hängt zunehmend davon ab, einen geringen Verschmutzungsgrad durch Kohlenstoff und Kohlenwasserstoffe sicherzustellen. Der Downstream-Plasmaprozess erledigt schnell und einfach die Beseitigung von akkumulierten Kohlenwasserstoff-Verunreinigung und reinigt zeitgleich die Proben. Im Gegensatz zur kinetischen Reinigung in üblichen "Plasmareinigern" ist der Downstream-Plasmaprozess ein schonender chemischer Prozess (mit vernachlässigbarer kinetischer Energie). Dieser Prozess hat die Mittel zur Entfernung von Kohlenstoff und Kohlenwasserstoffen in Vakuumkammern revolutioniert.

Der Prozess ist sowohl in großvolumigen Kammern als auch auf stark verunreinigten Oberflächen wirksam. Durch die Entwicklung einer erhöhten Konzentration an Sauerstoff (O0)und Wasserstoff (H0), erreicht der GV10x DS Asher makellos reine Kammern in nur 1/10 der Zeit. (Meinen sie O2 und H2???) Was unserer Kunden sagen: "... selbst in großen Kammern können wir mit dem GV10x Kohlenwasserstoffe durchweg effizient kontrollieren, und das in nur 1/10 der Zeit und mit einer höheren Gleichmäßigkeit gegenüber herkömmlichen Methoden."

Die Entfernung von Kohlenstoffverunreinigungen durch den GV10x Downstream Asher stellt einen wichtigen Fortschritt gegenüber herkömmlichen Methoden zur Verringerung von Verunreinigungen wie Kühlfallen, Stickstoffspülung und anderen Plasmareinigern dar. Durch seinen erweiterten Spannungs- und Druckbereich (5 bis 100 Watt und 2 bis <0,005 Torr) beweist der GV10x ein Umdenken in der Kohlenstoff-Kohlenwasserstoff-Kontrolle in SEMs und anderen analytischen Instrumenten wie Mas Spec, XPS usw.
Atomarer Sauerstoff und Wasserstoff beseitigen die Verunreinigungen, indem sie den Oberflächenkohlenstoff in Gasphasemolekühle umwandeln, die dann aus den Kammern gepumpt und nicht nur immobilisiert oder vorübergehend eingeschlossen werden. Probenartefakte wie z.B. polymerisierte Ablagerungen können in weniger als 5 Minuten-Zyklen entfernt werden. (mehr oder weniger als 5 min???) Da Die Reinigungszeiten in der Regel selten sind, kann ein GV10x DS Asher niedrige HC-Werte in mehreren EM-Werkzeugen aufrechterhalten, was durch die Qwk-Switch-Montagekonfiguration™ erleichtert wird.

Die ibss-Gruppe bietet verschiedene Formfaktor-Controller an, die die Stromversorgung und Steuerung der GV10x-Plasmaquellen gewährleisten. Ob ein BT-Controller oder 2U-Controller genutzt wird, hängt von der Präferenz des Nutzers ab.

Über die Windows-Software oder den Touchscreen kann die Betriebsleistung während eines Reinigungszykluses zwischen 10 und 99 Watt gewählt, überwacht und verändert werden. Der Druck von 2 Torr bis 5 mTorr kann über die an der Variable Constriction befestigte Source ausgewählt werden.< Der große Druckbereich des GV10x's ermöglicht die Kohlenwasserstoffentfernung in TMP-Geschwindigkeit ohne eine Gefahr für den TMP oder eine Unterbrechung der Systemverriegelungssoftware.