Anwendungen

GV10x-Anwendungen

Weltweit ist der GV10x-DS-Asher unter den Elektronenmikroskop Nutzern dafür bekannt, Kohlenstoffverunreinigung von EM-Proben und -Kammern zu entfernen. Verbesserungen der Verschmutzungsanalyse gegenüber traditionellen Methoden, wie z. B. der ersten Generation von Plasmareinigern, Kühlfallen (LN2 Trapping), oder Stickstoffspülung (N2 Purge), bieten EM-Forschern die Möglichkeit, Kohlenstoffpartikel in Minuten zu entfernen und Kammerverunreinigungen zu verhindern. 

Die verbesserte Leistungsfähigkeit des GV10x entsteht durch die Produktion von Niederdruckplasma. Durch die langsame Rekombination vom Plasma und der großen mittleren freien Weglänge der Elektronen verbreiten sich die hellen UV Strahlen durch die gesamte Kammer. Durch die Kombination aus chemischer Wechselwirkung und dem großen Leistungsbereich wird der Kohlenstoff auf Oberflächen in gasförmige Moleküle umgewandelt, die dann aus der Vakuumkammer gepumpt werden – während „Trapping“ lediglich die Moleküle auf Oberflächen bewegungsunfähig macht.

Um alle mikroskopischen Geräte im Labor verschmutzungsfrei zu halten, kann der leistungsfähige GV10x-DS-Asher zwischen den verschiedenen Instrumenten gewechselt werden. Das Wechseln des GV10x zwischen den verschiedenen Instrumenten ist mit Hilfe des Qwk-Switch™, einem QSTM-Adapter schnell und einfach möglich. Die Reinigungszeit ist vom Verschmutzungsgrad der Geräte abhängig. 

Mit den Fortschritten in der Nanowissenschaft können Elektronenstrahlen feiner gebündelt werden, benötigen weniger Energie, und der Einsatz von Prozessgasen nimmt zu. Das Auflösungsvermögen bei geringer Auftrittsenergie ist stark von der Verringerung der Kohlenstoffverschmutzung abhängig. Der Downstream-Asher führt diesen Plasmaprozess schnell, effektiv und kompromisslos durch und spart somit dem Betreiber wertvolle Zeit. Eine wesentliche Zeitersparnis ist auch dadurch gegeben, dass der Plasmareiniger betrieben werden kann, ohne das Vakuum zu brechen. Ein Eingriff in die Vakuumlogik ist nicht notwendig. Das erzeugte gleichmäßige Plasma (nicht pulsierend) kann trotz laufender Turbo Pumpe erzeugt werden. Im Gegensatz zum klassischen Plasmaätzer mit einem kinetischen Sputterätzvorgang, ist der Downstream-Plasmaprozess ein sanftes chemisches Reinigen. Dieser Prozess hat die Methoden zur Entfernung von Kohlenstoffmolekülen und Kohlenwasserstoffen in Vakuumkammern revolutioniert.

SEM-, FIB- und TEM-Anwendungen

Die Plasmareinigung ist die am wenigsten invasivste aber effektivste Methode, um Proben für die EM-Mikroskopie aufzubereiten, wenn bei Materialien eine Gasentwicklung auftritt. Während des Plasmareinigungsprozesses können nicht nur Kohlenwasserstoffschichten, sondern auch andere Kohlenstoffstrukturen abgebaut werden. Das kann bei der TEM Anwendung ein Problem darstellen, weil das Kohlenstoff beschichtete Trägernetz mit jeder Reinigung dünner wird. ibss bietet ein nicht-kinetisches, aber sanftes Verfahren an, das die Nebenwirkungen der Interaktion von Plasmaproben verringert. Die Ergebnisse zeigen, dass dieses System effektiv Verunreinigungen entfernt und gleichzeitig den Kohlenstoff-Trägerfilm während der Reinigungszyklen schont.

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Schleusenkammer (Load Lock)

Bei der Installation des Downstream-Asher GV10x an der Schleusenkammer werden die Proben und die Schleusenkammer vollautomatisch gereinigt. Die Vorreinigung in der Schleusenkammer reduziert die Kammerverschmutzung und verringert die Häufigkeit der Kammerreinigung. Um die Kammer zu reinigen, kann die Schleusentür geöffnet werden. Bei Verwendung eines Qwk-Switch™ Adapters kann die Plasmaquelle schnell von einer System Schleuse auf die nächste umgebaut werden. Bitte kontaktieren Sie uns, wenn Sie an ibss-Lösungen von Schleusenkammerkonfigurationen interessiert sind. 

UniAlberta GV10x on Gemini
GV10x on S4500 Sigmatech Amkor
GV10x On Hitachi S4800
GV10x on XPS
GV10x on XB540
Jeol JSM 7200 LoadLock
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