GV10x UHV DS Asher
Im Internet zu findende Konkurrenzgeräte können zwar Hochvakuum (HV)-, aber nicht Ultra- Hochvakuum (UHV)- kompatibel. Der Betrieb von Hochvakuum-Plasmaquellen an Ultra-Hochvakuum-Systemen erfordert kostenintensive Komponenten wie z. B. Absperrventile sowie Vorpumpen-Systeme.
Der GV10x UHV DS Asher ist dafür ausgelegt, nach Plasmareinigung der UHV-Vakuumkammer (im Millitorr-Bereich) ohne Unterbrechung des Vakuums an der Kammer zu verbleiben. Diese einzigartige in-situ-Plasmaquelle macht ein kostspieliges Absperrventil und eine Vorpumpe überflüssig.
Key Features
- Reinigungszyklus in Minuten; 10x schneller als Konkurrenzprodukte.
- Bietet hervorragende Leistung gegenüber 'klassischen' kapazitiven Antennen (Quelle) (???)
- Sauerstoff (O2)/Argon(Ar) O0-Plasma für nicht oxidierende Oberflächen
- Wasserstoff (H2)/Argon (Ar)/Neon (Ne) H0-Plasma für Nickel (Ni) und Rhodium (Rh) oxidierende Schichten
- Gittereffizienz/Abtragungseffizienz (????) um Faktor 7.6 gesteigert
- Vollständige Wiederherstellung des Blazed-Hochenergie-Gitter/Abtragungsprofils (???)
- Stufenlos einstellbarer Betriebsdruck von <5 mTorr bis 2 Torr
- Erweiterter Leistungsbereich: 5-100 Watt Hochfrequenzleistung
- Nich schädlich
- System-Computer durch Opto-Isolation in beiden Controllern geschützt.
- Sehr hohe Reinigungseffizienz und Gleichmäßigkeit
- Verringert die Verunreinigung 10x bis 20x wirkungsvoller als vergleichbare Geräte.
- Reinigungszyklus in Minuten; 10x schneller als Konkurrenzprodukte.
- Zukünftige Höherskalierung und Entfernung von H0-Verunreinigungen sind in Vorbereitung
