GV10x UHV DS Asher
Les sources concurrentielles découvertes par recherche sur Internet peuvent être compatibles avec le vide élevé (HV) mais pas avec l'ultra-vide (UHV). Les composants sous vide nécessaires pour la conversion des sources plasma HV en sources compatibles UHV nécessitent une vanne d’isolation coûteuse et des composants de pré-pompage.
Le GV10x UHV DS Asher est conçu pour résider sur une chambre UHV après nettoyage plasma de la chambre dans la gamme milliTorr sans briser le vide. Cette source plasma in situ unique en son genre élimine le besoin d’une valve d’isolation et d’une pré-pompe à vide coûteuses.
Key Features
- Cycle de nettoyage en quelques minutes; 10X plus rapide que les unités compétitives
- Offre des performances supérieures par rapport aux sources avec antenne capacitive « classique »
- Plasma O2/Ar O* pour surfaces non oxydantes
- Plasma H2/Ar/Ne H* pour couches oxydantes Ni et Rh
- Efficacité de diffraction réseau optique augmentée par facteur de 7.6
- Récupération complète du profil du réseau optique type "blazed" pour hautes éneregies
- Pression de fonctionnement réglable en continu de <5 mTorr à 2 Torr
- Étendue de puissance élargie: puissance RF de 5 à 100 watts
- Non dommageable
- Système PC protégé par Opto-Isolation dans les deux contrôleurs
- Efficacité et uniformité de nettoyage très élevées
- Réduit la contamination 10X à 20X plus efficacement que les unités compétitives
- Cycle de nettoyage en quelques minutes; 10X plus rapide que les unités compétitives
- Futures améliorations et perfectionnements de l’élimination de contaminations par H* en cours
