GV10x UHV DS Asher
インターネット検索で見つかった競合他社のプラズマ発生器は、HV（高真空）には互換性があっても、UHV（超高真空）には互換性がないと思われます。 HVプラズマ発生器をUHV互換に変換するための真空機器には、高価な隔離弁とプリポンプ機器を取り付ける必要があります。
GV10x UHV DS Asherは、ミリトール領域でチャンバーをプラズマ洗浄した後に、真空状態を破壊することなく、UHVチャンバーにそのまま設置しておけるように設計されています。 このin-situプラズマ発生器が1台あれば、高いコストのかかる隔離弁やプリポンプはもはや必要ありません。
Key Features
- 競合製品より10倍高速な洗浄サイクル（分単位）
- ”古典的な”静電容量型プラズマ発生器よりも優れたパフォーマンス
- 非酸化表面用のO2/Ar O0プラズマ
- NiおよびRh酸化層用のH2/Ar/Ne H0プラズマ
- グレーティング効率は7.6倍に増加
- ブレーズド高エネルギー格子プロファイルの完全修復が可能
- 5mTorr未満～2Torrの範囲で連続的に調整可能な動作圧力
- 幅広い電力範囲：5-100WのRF電力
- 試料の損傷なし
- 両方の制御器での光絶縁により保護されたシステムPC
- 非常に高い洗浄効率と均一性
- 競合製品よりも10倍から20倍効果的に汚染を除去
- 競合製品より10倍高速な洗浄サイクル（分単位）
- 将来のスケールアップとH0汚染除去の改善計画が進行中
